世界各先進國家莫不關注新興科技的智慧財產保護議題，而其中涉及工業設計領域者，主要是有關「電腦圖像及圖形化使用者介面」的設計保護（簡稱「圖像設計」）。 經濟部智慧財產局亦於去（2020）年11月1日施行新修訂的「設計專利實體審查基準」，其大幅地修正我國圖像設計保護制度，以擴大其保護範圍並期望能更加符合產業界的實際需求。故本文將就各國圖像設計的保護制度及相關判決為簡單介紹，並說明我國修正圖像設計制度的原由及重點。

營業秘密是各種智慧財產權的基石，以專利而言，在研發階段，公司內部若無法保密，將該技術在早於專利申請日於網路上或其他公開場合販賣，則可能被認定喪失新穎性，因而無法取得專利權；若為商標權，我國目前採註冊申請主義，倘若在合作階段並未保密，則可能會讓他人得搶先一步向主管機關申請，爾後紛爭進入法院，應有權利人亦有可能因未做好保密佈局，無法向法院充分展現其為該商標圖案或文字的發想人，而無法成功異議或評定。若為著作權，則有可能因未保密而為他人搶先發表，反而被指為抄襲已發表之著作。